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Impiantazione ionica: principi di funzionamento e applicazioni

Cominciamo ad esaminare una delle tecniche più utilizzate per il drogaggio dei semiconduttori

L’ impiantazione ionica è una tecnica che può essere introdotta ogni qual volta si presenti la necessità di modificare le proprietà di un materiale in prossimità della sua superficie.
Queste variazioni possono riguardare indifferentemente sia le proprietà chimiche, sia quelle elettriche, ottiche e meccaniche della regione interessata. Tali modificazioni vengono determinate dalla introduzione all’ interno del substrato di elementi chimici opportuni. Per fornire agli elementi interessati energia sufficiente affinché possano penetrare nel substrato ospite sino alla profondità richiesta si può impiegare una “macchina” capace dapprima di ionizzare le specie chimiche, per poi porre le stesse in un campo elettrostatico di intensità adeguata alla cessione della energia desiderata.
Proprio su questo schema si articola nelle sue linee essenziali il funzionamento di un impiantatore. Le modificazioni registrate nei substrati sottoposti al processo di impiantazione ionica possono essere dovute sia alla formazione di nuovi legami chimici tra gli atomi del materiale ospite e quelli introdotti nel processo, sia al danno reticolare prodotto (continua).

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